КУРСОВОЙ ПРЕКТ ПО ФИЗИКЕ П/П ПРИБОРОВ
ОРГАНИЗАЦИЯ КП
КП состоит из 2 частей:
1). Расчет электрических характеристик интегрального МДП транзистора.
2). Расчет электрических характеристик интегрального БТ.
В пояснительных записках должны быть:
- расшифровка всех вводимых обозначений; - пояснения ко всем формулам;
- аккуратно выполненные рисунки; - чертежи топологии приборов;
- краткая маршрутная карта.
I. РАСЧЕТ ЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ХАРАКТЕРИСТИК КРЕМНИЕВОГО ИНТЕГРАЛЬНОГО п-КАНАЛЬНОГО МДП ТРАНЗИСТОРА
ЛИТЕРАТУРА
1. Старосельский В.И. Физика МДП транзисторов. М.: МИЭТ, 1993.
2. Старосельский В.И. Физика р-п переходов и полупроводниковых диодов. М.: МИЭТ, 1993.
3. Баринов В.В., Онацко В., Шишина Л.Ю. Основы топологического проектирования ИМС. — под ред. В.Онацко. М.: МИЭТ, 1994.
ЗАДАНИЕ
1. При заданных исходных данных обеспечить пороговое напряжение +1 В.
2. Рассчитать и построить выходные характеристики при = 0 в диапазоне напряжений: 0 — 5 В;
= 0 — 5 В (шаг 1 В) — в приближении идеализированной модели,
= 4 В — реальная ВАХ.
3. Привести малосигнальную эквивалентную схему, объяснить смысл элементов.
Факультативно:
4. Расчет и корректировку проводить с учетом эффектов короткого и узкого канала.
5. В дополнение к п.2 построить реальную выходную ВАХ для = 4 В, = -2 В.
6. Рассчитать коэффициент усиления по напряжению в точке = 4 В, = 4 В.
7. Рассчитать параметры эквивалентной схемы в режиме = 4 В, = 0.
ИСХОДНЫЕ ДАННЫЕ
1. Материал затвора Si*.
2. Длина канала, мкм L = 5.
3. Ширина канала, мкм W = 5 .
4. Толщина подзатворного диэлектрика (SiO2), мкм d = 0,1 мкм.
5. Концентрация примеси в подложке, см-3 = 1015.
6. Подвижность электронов в канале, см2/В.с μn = 700.
7. Плотность поверхностных состояний, см-2 =1011 (Qss > 0).
8. Концентрация примеси в контактных п+- слоях, см-3 = 1020.
9. Толщина контактных п+-слоев, мкм 1
Дать рисунки:
Рис.1 - структура МДП транзистора
Рис.2 - топология МДП транзистора
2. Расчет и корректировка порогового напряжения
При :
, (1)
где . (2)
. .
Выберем в качестве материала затвора n+ - Si*. Тогда , и
= 1,12/2 — 0,3 = — 0,86 В. (3)
; (4)
мкм. (5)
Кл/см2 .
= 1,6⋅10-19×1011 = 1,6⋅10-8 Кл/см2 .
; Ф/см; Ф/см2
- 0,86 + 2.0,3 — B.
Для обеспечения заданной величины порогового напряжения +1 В необходимо увеличить его на +1 - (-0,31) = +1,31 В. Если затвор сделать из р+-Si, получим +1,12 В. Остается 0,2 В. Подлегируем поверхность мелкими акцепторами на глубину мкм << = 1 мкм.
. (6)
Необходимая доза подлегирования составляет
см-2, (7)
а средняя концентрация акцепторов в подзатворном слое
см-3.
3. ВАХ
3.1. Расчет ВАХ в рамках идеализированной модели
В этом приближении действие подложки не учитывается, а толщина ОПЗ под затвором считается постоянной и равной . ВАХ:
(8)
где ;
А/В2 = 21 мкА/В2. (9)
Для заданного режима ( 4 В):
4 — 1 = 3 В; 21(4 — 1)2 / 2 = 95 мкА.
Рис. 3. ВАХ МДП транзистора: а - идеализированная модель; б - с учетом неоднородности ОПЗ. Штриховая линия — граница крутой области.
3.2. Расчет ВАХ с учетом неоднородности ОПЗ под затвором
Пояснить, почему неоднородность ОПЗ изменяет вид ВАХ.
3.2.а. Крутая область ВАХ
Для крутой области ВАХ [1] при :
, (10)
где = 2×1,1.10-12 ×1,6.10-19 ×1015 / (3.10-8)2 = 0,4 В. (11)
Расчет проведем для , В — кривая б на рис. 3.
Напряжение насыщения определяется соотношением [1]:
, (12)
где при :
= 1,72 . (13)
Для , В:
= 4 — 1 — 0,4×1,72×[] = 2,4 В.
== 73,5 мкА.
3.2.б. Пологая область ВАХ
Объяснить причину наклона ВАХ (модуляция длины канала).
Приближенно для заданного можно считать, что ВАХ имеет вид прямой, проходящей через точку . Вычислим при В.
. Эффективная длина канала [1]:
, (14)
где ES = 15 кВ/см — поле насыщения скорости электронов,
— (15)
толщина ОПЗ под стоком на границе с пологой областью,
=1,12 / 2 + 0,3 = 0,86 В — (16)
контактная разность потенциалов сток-подложка.
Из (13) и (12):
мкм.
= 4 мкм.
Ток стока при В:
мкА.
Для В нарисовать на рис. 3 прямую б), проходящую через точку 2,4 В, 73,5 мкА и точку В, 92 мкА.
ЭКТ-44
№ | Студент | Экзамен, |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
1 | Бархударов А.В. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
2 | Белов А.В. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
3 | Берников Д.Б. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
4 | Бобриков С.А. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
5 | Буриличев А.Е. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
6 | Гуминов Н.В. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
7 | Дедуль А.И. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
8 | Иосько К.В. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
9 | Карев И.А. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
10 | Колпаков С.А. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
11 | Кондратюк Р.И. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
12 | Куницын А.В. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
13 | Курников Е.Н. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
14 | Моторин Д.А. |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
|
